YS-T 38.3-2023 高纯镓化学分析方法 第3部分：痕量杂质元素含量的测定 辉光放电质谱法

ICS 77.040 YS CCS H 17 中华人民共和国有色金属行业标准 YS/T 38.3—2023 高纯镓化学分析方法第3部分：痕量杂质元素含量的测定辉光放电质谱法 Methods for chemical analysis of high purity gallium-Part 3:Determination of trace impurity elements contentsGlow discharge mass spectrometry 2023-04-21发布 2023-11-01实施中华人民共和国工业和信息化部发布 YS/T 38.3—2023 前言本文件按照GB/T1.1一2020《标准化工作导则第1部分：标准化文件的结构和起草规则》的规定起草。本文件是YS/T38《高纯化学分析方法》的第3部分。YS/T38已经发布了以下部分：第1部分：硅量的测定钼蓝分光光度法；第2部分：镁、钛、铬、锰、镍、钻、铜、锌、镉、锡、铅、铋量的测定电感耦合等离子体质谱法一第3部分：痕量杂质元素含量的测定辉光放电质谱法。请注意本文件的某些内容可能涉及专利。本文件的发布机构不承担识别专利的责任。本文件由全国有色金属标准化技术委员会(SAC/TC243)、全国半导体设备和材料标准化技术委员会材料分技术委员会(SAC/TC203/SC2)提出并归口。份有限公司、南京金美镓业有限公司、厦门市科力电子有限公司、北京清质分析技术有限公司、贵研检测科技(云南)有限公司、合肥中晶新材料有限公司。本文件主要起草人：刘红、刘鹏宇、胡芳菲、杨复光、赵景鑫、孙道儒、朱赞芳、汪洋、李俊需、李铭、马媛、程平。 1

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