GB-T 16524-1996 光掩模对准标记规范

ICS _31. 200 L 95 中华人民共和国国家标准 GB/T 16524-1996 光掩模对准标记规范 Specification for registration marks for photomasks 1996-09-09发布 1997-05-01实施国家技术监督局发布 GB/T16524-1996 前言本标准等效采用SEMI标准《微型构图》部分中的SEMIP6-88《光掩模对准标记规范》（Specifica- tion for registration marks for photomasks). 本标准与已经转化为我国标准的SEMIP1一92《硬面光掩模基板》（GB/T15871--1995）、SEMI P2-86《硬面光掩模用铬薄膜》(GB/T15870—1995）、SEMIP4-92《圆形石英玻璃光掩模基板规范》（GB/T16523—1996）、SEMIP3—90《硬面感光板中光致抗蚀剂和电子抗蚀剂规范》（GB/T16527- 1996），以及将要转化为我国标准的SEMIP21一92《掩模曝光系统精确度表示准则》、SEMIP22—93《光掩模缺陷分类和尺寸定义的指南》、SEMIP19一92《用于集成电路制造技术的检测图形单元规范》等项标准形成一个微型构图标准系列。制定本标准将使我国半导体集成电路光掩模对准标记的设计和制造规范化，有利于我国半导体工业生产和科研，便于与国际半导体集成电路制造业接轨，亦有利于国际间工业技术交流。本标准的格式和结构按国标GB/T1.1一1993的规定编制。本标准由中华人民共和国电子工业部提出。本标准由电子工业部标准化研究所归口。本标准起草单位：中国科学院微电子中心。本标准主要起草人：陈宝钦、陈森锦、陈福山、冯朝斌。建筑321- 标准查询下载网 www..jz321.net

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